摘要

      超快激光具有能量密度高，方向性強，相干性高等特點(diǎn)，飛秒激光微納加工在復雜的三維微納功能器件的加工領(lǐng)域具有*的優(yōu)勢。目前傳統的激光微納加工技術(shù)均為逐點(diǎn)掃描的加工方式，加工效率無(wú)法滿(mǎn)足實(shí)際生產(chǎn)的率需求?；诳臻g光調制器的計算全息技術(shù)可以實(shí)現靈活可控的光場(chǎng)分布，飛秒激光可以被的調制成預設的多焦點(diǎn)圖案陣列，從而實(shí)現的并行加工，可以大大的提高加工效率。同時(shí)利用空間光調制器可以方便的生成貝塞爾光束，可以實(shí)現微環(huán)形結構的單次曝光式加工。

關(guān)鍵詞

      空間光調制器 超快激光微納加工 微納加工 激光加工

介紹：

     空間光調制器(SLM)可以將信息加載到二維光學(xué)數據場(chǎng)中，是一種對光束進(jìn)行調整的器件。通過(guò)控制加載到SLM上的灰度圖，SLM可以調控空間光場(chǎng)的相位、振幅、偏振等，或者實(shí)現光的非相干性到相干性的轉變。將SLM同超快激光微納加工技術(shù)結合起來(lái)，發(fā)揮二者的優(yōu)勢，可大大提高激光微納加工的效率和靈活性。如：利用SLM生產(chǎn)多焦點(diǎn)的陣列（e.g. 30x30）, 從1個(gè)點(diǎn)變成900個(gè)點(diǎn)，加工效率提高900倍。同時(shí)通過(guò)控制各個(gè)點(diǎn)的位置，可以實(shí)現不同線(xiàn)寬不同焦深的控制。SLM還可以通過(guò)加載計算全息圖，可實(shí)現圖案結構的一次性曝光加工。

圖1 利用SLM生成多焦點(diǎn)陣列及并行加工圖案

圖2 市面上的空間光調制器(SLM)產(chǎn)品示例

      SLM除了可以調整激光生成二維多焦點(diǎn)配合移動(dòng)臺或振鏡進(jìn)行逐層掃描來(lái)實(shí)現三維加工外，SLM還可將飛秒激光調制成空間特定分布的點(diǎn)陣、線(xiàn)型光場(chǎng)、面型光場(chǎng)、實(shí)現以點(diǎn)、線(xiàn)、面為基本加工單元的加工。除二維光場(chǎng)分布外，SLM可以進(jìn)行三維光場(chǎng)調制。

     上海昊量光電設備有限公司的技術(shù)工程師運用美國Meadowlark Optics 公司的液晶純相位型P1920-400-800-HDMI空間光調制器產(chǎn)生了2x2, 2x3, 2x4的空間高斯光斑點(diǎn)陣及空間貝塞爾光斑點(diǎn)陣。

實(shí)驗光路如下：

實(shí)驗結果如下：

圖3  2x2, 2x3, 2x4的空間高斯光斑點(diǎn)陣結果

圖4  2x2, 2x3, 2x4的空間貝塞爾光斑點(diǎn)陣結果

超快激光微納加工對空間光調制器的要求

1.SLM的損傷閾值

      因為SLM將入射照明分為多個(gè)焦點(diǎn)。隨著(zhù)焦點(diǎn)數量的增加，每個(gè)焦點(diǎn)的功率下降。為了增加焦點(diǎn)的數量，同時(shí)保持每個(gè)焦點(diǎn)的功率滿(mǎn)足微納加工的要求，SLM的損傷閾值得至關(guān)重要。多個(gè)因素影響SLM的損傷閾值。：1、增加SLM的通光尺寸允許照明分布在更大的區域；2、SLM的電極涂層可以?xún)?yōu)化以限制吸收，提高反射率；3、主動(dòng)和被動(dòng)冷卻系統可以用于緩解熱效應，保證相位調制量的穩定性。

      目前市面上的SLM主要品牌像德國Holoeye，美國Thorlabs,中國臺灣JDC，以及一些國產(chǎn)的SLM，其損傷閾值均為2W/cm2,無(wú)水冷降溫模塊。

      美國Meadowlark Optics公司的1920x1152（P1920）系列空間光調制器的損傷閾值可達200W/cm2，配備水冷模塊，保證液晶的溫度恒定，相位調制深度恒定。

2. SLM的響應時(shí)間（刷新速度）

液晶響應時(shí)間取決于多個(gè)因素，包括液晶層的厚度，其被優(yōu)化后在長(cháng)工作波長(cháng)處提供一個(gè)相位行程波，驅動(dòng)器的電壓和液晶材料特性。 對于光遺傳學(xué)，大多數研究人員將SLM與雙光子、三光子顯微鏡結合，并且工作在900 nm至1300 nm的波長(cháng)范圍內。美國Meadowlark Optics公司是提供高速SLM的供應商，HSP1920-1064-HSP8型液晶空間光調制器在1064 nm，能夠達到300 Hz的液晶響應速度(從0 - 2pi轉換)和845Hz的幀頻（灰度圖片同電腦傳輸到SLM速度）。

      在1064 nm處，液晶從10%到90%范圍內上升和下降時(shí)間小于3 ms。將焦點(diǎn)通過(guò)觸發(fā)打開(kāi)和觸發(fā)關(guān)閉進(jìn)行檢測。 （左）由軟件定時(shí)驅動(dòng)的液晶開(kāi)關(guān)。 焦點(diǎn)被打開(kāi)和關(guān)閉探測器（顯示為黃色）。 當SLM上的圖像發(fā)生變化時(shí)，硬件會(huì )產(chǎn)生一個(gè)輸出脈沖（以紫色顯示），表示新圖像將在1.18 ms內開(kāi)始在SLM上加載。 （右）由外部硬件觸發(fā)驅動(dòng)的液晶開(kāi)關(guān)。 當外部觸發(fā)器的下降沿到達（以藍色顯示）時(shí)，硬件將啟動(dòng)SLM上的圖像更新。 產(chǎn)生輸出脈沖以確認接收到觸發(fā)（以紫色顯示）。 在產(chǎn)生輸出脈沖后的1.18面試內，圖像將在SLM上更新（以黃色顯示，焦點(diǎn)移入和移出檢測器）。

     目前市面上的SLM主要品牌像德國Holoeye，日本濱松，美國Thorlabs,中國臺灣JDC，以及一些國產(chǎn)的SLM，其液晶響應時(shí)間在1064nm在80ms(12.5Hz)左右，控制器的幀頻均為60Hz。

3. 相位穩定性

為了確保各焦點(diǎn)在超快激光微納加工分配時(shí)的一致性，SLM的時(shí)間特性變得重要。 Meadowlark Optics公司的SLM使用兩種策略來(lái)大化相位穩定性。種策略是使用直接模擬尋址，而不是模擬使用二進(jìn)制尋址與時(shí)序抖動(dòng)相結合的模擬調制。第二種策略是使用能夠以844Hz的速率刷新的定制背板。高速背板刷新對于減輕像素電容的電壓損失是必要的。如果背板刷新較慢，則像素處的電壓下降使液晶分子松弛，從而改變LC的折射率。如果背板電壓的刷新速度明顯快于LC弛豫時(shí)間，那么SLM將具有較高的相位穩定性。

通過(guò)向SLM寫(xiě)入重復相位斜坡并測量一階強度來(lái)量化相穩定性。 LC分子松弛的不穩定性會(huì )導致一階焦點(diǎn)的強度隨時(shí)間而變化。相穩定性被定義為峰到一階焦點(diǎn)強度的峰值與平均焦點(diǎn)強度的比值。對于需要更高相位穩定性和高分辨率的研究，標準的1920 x 1152像素SLM可提供低至0.20％的相位紋波。

4. 波前質(zhì)量（波前畸變）

      單光子激發(fā)相比，雙光子激發(fā)具有更好的限制，因為由兩個(gè)光子同時(shí)激發(fā)的可能性與光強度的平方成正比。因此，雙光子激發(fā)以焦點(diǎn)距離的四次冪衰減[8]。然而，這種低激發(fā)的可能性使得操作模式對改變焦點(diǎn)的PSF的像差敏感。為了確保在大體積上的一致激發(fā)，校正顯微鏡中SLM和其余光學(xué)元件的像差是很重要的。

     許多用于表征和校正像差的算法都基于Zernike多項式。然而，對圓形孔徑的依賴(lài)不適用于描述正方形或矩形陣列的像差。已經(jīng)開(kāi)發(fā)了基于SLM的干涉子孔徑的替代策略[9]，以確保SLM的有效區域上的像差可以被校正到λ/ 40或更好。如圖7所示，由于使用了制造工藝，MLO SLM的本身的波前像差很低。

（a）原始的1920 x 1152像素SLM波前（λ/ 7 RMS）

（b）應用了像差校正的波前（λ/ 20 RMS）

（c）未應用校正的像差曲面圖。 

（d）應用校正后的像差曲面圖。

5. 計算全息算法優(yōu)化

美國Meadowlark Optics公司與美國霍華德休斯敦學(xué)院的研究人員合作開(kāi)發(fā)了新的計算全息優(yōu)化算法，并且嵌入到SLM的控制軟件中，客戶(hù)可以正確、靈活的更方便的產(chǎn)生想要的光斑模式。同時(shí)用戶(hù)可根據自己的需求控制每個(gè)焦點(diǎn)的光強。