激光指向穩定在光刻系統應用中的關(guān)鍵作用，及其優(yōu)化方案！

光刻是半導體制造工藝中的核心之一，極紫外光刻技術(shù)作為新一代光刻技術(shù)也處于快速發(fā)展階段。其基本原理是利用光致抗蝕劑（或稱(chēng)光刻膠）感光后因光化學(xué)反應而形成耐蝕性的特點(diǎn)，將掩模板上的圖形刻制到被加工表面上。光刻半導體芯片二氧化硅的主要步驟包括涂布光致抗蝕劑、套準掩模板并曝光、用顯影液溶解未感光的光致抗蝕劑層、用腐蝕液溶解掉無(wú)光致抗蝕劑保護的二氧化硅層，以及去除已感光的光致抗蝕劑層。

在光刻系統中，激光的指向穩定非常重要，會(huì )直接影響光刻的圖形準確性和一致性。影響光束指向穩定的主要因素有三個(gè)，分別是激光器本身的位置偏移，處于不同基座上的激光器和照明系統之間的振動(dòng)差異性以及傳輸過(guò)程中的光學(xué)系統的擾動(dòng)。這些擾動(dòng)會(huì )對光刻的質(zhì)量造成嚴重影響。

首先，激光指向的穩定性對于確保圖形的精確刻蝕至關(guān)重要。在光刻過(guò)程中，激光束需要精確地照射到硅片上的特定區域，以實(shí)現圖形的準確轉移。如果激光指向不穩定，會(huì )導致圖形位置偏移、尺寸變化等問(wèn)題，嚴重影響產(chǎn)品的質(zhì)量和性能。

其次，激光指向的穩定性還關(guān)系到光刻的重復性和一致性。在半導體制造中，往往需要對大量的硅片進(jìn)行光刻處理，這就要求光刻過(guò)程具有高度的可重復性和一致性。如果激光指向不穩定，每次光刻的結果都會(huì )有所差異，導致產(chǎn)品批次間的性能不一致，增加了制造難度和成本。

因此，激光指向的穩定性在不斷提升的精度要求下顯得尤為重要。

我們可以通過(guò)減小振動(dòng)和降低溫度變化等方式實(shí)現光束的相對穩定，但這只是一種被動(dòng)的補償方式，而且無(wú)法規避這些干擾。對此，可以通過(guò)一套主動(dòng)的補償系統，當光束發(fā)生偏移之后通過(guò)調整光路將其轉向回來(lái)，對環(huán)境的要求就顯得沒(méi)有那么苛刻。

來(lái)自TEM公司的光束指向穩定系統可以實(shí)現上述功能。該系統由兩個(gè)快速反射鏡（FSM），一個(gè)位置探測器（PSD）和一個(gè)控制機箱組成。FSM的偏轉通過(guò)將電動(dòng)馬達和壓電陶瓷進(jìn)行結合，可以同時(shí)保證了快速反射鏡的大量程和高精度，配合高分辨率的位置探測器（PSD），系統總精度可達到亞微米量級。除此之外，響應時(shí)間對于需要激光束實(shí)時(shí)穩定的系統而言也是至關(guān)重要的，you秀的算法可以將其限制在0.2ms范圍，閉環(huán)帶寬超過(guò)5KHZ。

下圖為光束探測及其穩定系統示意圖。激光經(jīng)過(guò)兩個(gè)快反鏡R1和R2之后入射到分束鏡BS1上，其中透射光用于后續的實(shí)驗和正常使用，少量反射光將進(jìn)入PSD中，用于光束探測。PSD是一種基于半導體PN結橫向光電響應的光電器件，根據入射光斑的質(zhì)心輸出電壓，兩個(gè)PSD分別用于檢測光束的位置偏移和角度偏移，控制器檢測到偏移信息后經(jīng)過(guò)算法將反饋信息給到FSM，控制FSM的旋轉，實(shí)現對主光束的指向糾偏。

下圖為使用該系統前后的光斑位置偏移情況，可以明顯看到在該系統工作之前光斑的位置是不穩定的，有較大偏移；而在系統開(kāi)始工作之后，光斑位置基本被控制在原點(diǎn)附近，位置穩定性顯著(zhù)提高。

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