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陰極發(fā)射體

簡(jiǎn)要描述:陰極發(fā)射體專(zhuān)為高亮度、長(cháng)壽命或堅固的可靠性而設計,用于Kimball Physics電子槍以及我們客戶(hù)的高性能儀器和工具。陰極/發(fā)射器既有標準產(chǎn)品,也有定制設計,應用包括電子顯微鏡、光刻、X射線(xiàn)生成、自由電子激光器、電子加速器等。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2024-02-20
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:502
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陰極發(fā)射體



Kimball Physics設計和制造各種高性能電子發(fā)射器,以滿(mǎn)足客戶(hù)的各種需求。

這些發(fā)射器專(zhuān)為高亮度、長(cháng)壽命或堅固的可靠性而設計,用于Kimball Physics

電子槍以及我們客戶(hù)的高性能儀器和工具。陰極/發(fā)射器既有標準產(chǎn)品,也有

定制設計,應用包括電子顯微鏡、光刻、X射線(xiàn)生成、自由電子激光器、

子加速器等。





 陰極發(fā)射體基座類(lèi)型:


● 六硼化鑭(LaB6)高亮度單晶                                                              ● 帶有Kovar或鉬引腳的高公差陶瓷

       LaB6高亮度單晶——標準和保護環(huán)                                                  ● 標準陶瓷AEI底座


       LaB6用于電子顯微鏡-適用于大多數系統                                         ● Compact Kimball Physics CB-104基座


● 圓盤(pán)陰極                                                                                               ● 各種顯微鏡底座


       鉭(Ta)標準耐火圓盤(pán)                                                                     ● 陰極也可以安裝在客戶(hù)提供的底座上


       用于低溫操作的氧化鋇(BaO)涂層圓盤(pán)


       釔(Y2O3)涂層銥盤(pán),可承受較差的真空度



陰極 發(fā)射體選型參考表



*electron microscope Bases Available: Zeiss, VG-AEI replacement, VG, Philips, Perkin Elmer/ ETEC, Leica-AEI, JEOL-K, JEOL-GC (JSM, JEOL-E, ISI 2-pin, Hitachi S, ETEC, Electroscan-AEI,

Camscan-AEI, Cameca-AEI, BioRad-AEI, Amray, AEI

* Configurations Available: Code (Cone angle – microflat size(microns): 60-06, 90-15, 90-20

Note- not all combinations are available (Cone angle, microflat dimension, with/without GR and base style, or Disc dimension and base). However, custom options are often available.

** Richardson constant (A/m2K2 ) LaB6 = 29, Other materials for reference CeB6 = 3.6


★★ 更多電鏡方面產(chǎn)品信息,比如,磁透鏡、真空腔等,可咨詢(xún)上海昊量光電設備有限公司。


關(guān)于昊量光電:

上海昊量光電設備有限公司是光電產(chǎn)品專(zhuān)業(yè)代理商,產(chǎn)品包括各類(lèi)激光器、光電調制器、光學(xué)測量設備、光學(xué)元件等,涉及應用涵蓋了材料加工、光通訊、生物醫療、科學(xué)研究、國防、量子光學(xué)、生物顯微、物聯(lián)傳感、激光制造等;可為客戶(hù)提供完整的設備安裝,培訓,硬件開(kāi)發(fā),軟件開(kāi)發(fā),系統集成等服務(wù)。

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